深圳平湖实验室发布GaN MPW共享服务平台及PDK，赋能GaN功率器件与IC技术创新，欢迎咨询！

在2025年10月圆满落幕的湾芯展上，深圳平湖实验室作为国家第三代半导体技术创新中心（深圳）的主体运营单位，在化合物半导体产业发展高峰论坛上携多项核心技术成果及未来前沿探索技术亮相展会。其中， GaN MPW（多项目晶圆）共享服务平台和基于中高压GaN工艺的PDK（Process Design Kit，工艺设计工具包）两大成果，将以创新服务的模式与全面的设计支持，为GaN功率器件与IC领域设计者带来降本增效新方案。

MPW模式（Multi Project Wafer，多项目晶圆）是多个项目共享某个晶圆，即同一次制造流程可以承担多个芯片设计的制造任务。它具有降低研发成本，多样化设计验证，缩短验证等待时间等优势。

深圳平湖实验室依托研发与中试于一体的平台优势，构建了全方位的GaN MPW服务体系，具体模式和计划如下：
（1）MPW模式：一个晶圆有多个重复单元（称为shot），将单一Shot分割为多个25平方毫米独立单元（称为unit），客户选择相应数量的独立单元。整个晶圆同时服务多个独立设计，降低客户成本，提高研发效率。

（2）运作流程：基于GaN PDK，由客户提供设计文件，我方进行设计合并、晶圆制造，测试与切割分发。
（3）GaN集成平台：包括650V与100V功率器件，低压增强与耗尽型器件，MIM电容、2DEG与金属电阻等。
（4）流片计划：今年底启动650V MPW流片，明年初启动100V MPW流片，具体流片服务计划如下：

同步发布的基于650V GaN工艺的PDK，以及将于2026年Q1发布的基于100V GaN工艺的PDK，则为设计者提供了全流程设计支撑工具。

PDK（Process Design Kit，工艺设计工具包）是芯片设计与制造之间的桥梁，用于确保设计和制造的一致性。

基于650V GaN工艺的PDK建立了基本单元库和物理设计规则，用于帮助设计者进行电路设计及验证。其中，单元库包含了GaN HEMT、电阻、电容等器件，功能模块包含工艺文件、物理验证规则（DRC/LVS）等。并且，工艺PDK套件与主流EDA软件具有较好的兼容性，能够支持功率IC设计。
 

Pcell版图
 

目前，两大成果均已同步开放合作，这是深圳平湖实验室在GaN设计仿真领域赋能产业的重要举措。诚邀广大行业同仁携手合作，借助实验室的平台优势获得精准、高效的服务支持，助力设计者快速降本提效、抢占行业先机。

并且深圳平湖实验室支持定制化单步开发、外延验证等服务。如需了解详细合作方案或加入流片计划，我们将为您提供一对一专属支持，欢迎垂询！
GaN MPW合作联系方式：吴妍霖 wuyanlin@phlab.com.cn