国产首台生产型电子束光刻机中试验证取得突破性进展！深圳平湖实验室与中电科签署框架合作协议
盛夏攻坚结硕果，自主创新再登峰。近日，国产首台生产型电子束光刻机（EBL）中试验证突破性进展发布暨合作框架签署仪式在深圳平湖实验室圆满举行。中电科电子装备集团、中电科四十八所与深圳平湖实验室强强联手，正式发布重大技术突破，并签署框架合作协议，标志着我国高端光刻装备自主化、工程化取得关键里程碑。
电子束光刻机是微纳加工、掩膜版制造、量子芯片、先进化合物半导体领域的核心高端装备，也是我国半导体与集成电路产业链自主创新的重要环节。历经多轮迭代优化，深圳平湖实验室与中电科体系联合攻坚，国产首台生产型电子束光刻机中试验证取得突破性进展，设备性能、稳定性与工艺能力达到产线级验证标准。
仪式开始前，与会嘉宾一行实地参观了深圳平湖实验室展厅及洁净间，全面了解实验室在科研与中试验证方面的硬核实力与建设成果。双方围绕技术难点、验证细节、产业落地路径等关键问题展开深度交流，为后续深化合作奠定坚实基础。
仪式上，深圳平湖实验室主任万玉喜表示，实验室将持续发挥中试平台优势，全力支撑国产半导体装备验证与产业化，以硬核能力推动产业发展。
中电科电子装备集团党委书记、董事长王平指出，央企将坚守使命担当，与深圳平湖实验室深度协同，聚力攻克关键核心技术，筑牢产业自主创新根基。
中电科四十八所电子束装备研究专家范江华全面介绍设备研发成果与核心技术突破；深圳平湖实验室光刻设备经理晏秋实作中试验证专项汇报，系统呈现历时三年完成的全流程、产线级中试验证成果。
在与会领导嘉宾共同见证下，深圳平湖实验室副主任、鹏进高科总经理贾国军，中电科四十八所党委书记孙勇代表双方签署合作框架协议。双方将围绕设备迭代、工艺进阶、人才培养、成果转化、专利协同五大方向深化合作，实现装备与工艺双向赋能，加速自主可控技术落地。
深圳平湖实验室以中试验证、装备熟化、工艺创新为核心，搭建开放共享公共平台，已完成124台国产装备的产线验证，打通科研成果产业化转化通道。本次突破填补国产生产型电子束光刻机工程化应用空白，打破海外长期技术垄断，对筑牢半导体产业链供应链安全具备重大战略价值。后续双方将深化联合攻关，持续释放平台效能，提速高端科研装备国产化水平，以全套自主装备有力支撑我国半导体与集成电路产业高质量升级。
