近日，深圳平湖实验室第四代半导体研究团队与新技术工程部团队传来喜讯：在氧化镓表面平坦化与无金欧姆接触工艺上双双取得重要进展。团队基于金属有机化学气相沉积（MOCVD）的氧化镓外延片，利用无金工艺实现了8E-7 Ω cm²（的比接触电阻率并同时开发了氧化镓外延片表面平坦化新工艺，使氧化镓表面均方根粗糙度降至0.107nm，两项核心指标均达到业界最优水平，为我国第四代半导体自主可控与产业化落地再添关键支撑。 氧化镓是当前全球重点攻关的超宽禁带半导体核心材料，具备耐高压、耐高温、大功率等突出优势，是下一代高功率电力电子器件的理想选择。然而，长期以来，两大技术瓶颈制约着氧化镓器件走向量产：一是电极接触依赖贵金属金，成本高、热稳定性差；二是外延片表面粗糙，易引发缺陷与电场集中，影响器件可靠性。此次深圳平湖实验室研究团队一次性破解两大行业难题。 一、无金欧姆接触工艺：不用黄金造电极，成本降 90%，性能更稳 氧化镓欧姆接触工程长期依赖金（Au）基体系，而无金（Au-free）欧姆接触是实现量产落地与产业自主可控的关键...

2026年6月6日，面向半导体工艺制造及量检测用激光器研讨会在深圳顺利召开。会议由集成电路零部件创新联盟主办，深圳平湖实验室、广东省大湾区集成电路与系统应用研究院、深圳市半导体与集成电路产业联盟承办，深圳平湖实验室主任万玉喜担任上午场主持，集成电路零部件创新联盟理事长雷震霖出席并作开幕致辞。 激光器是半导体产业关键基础器件，既是半导体制程加工的重要能量源，也是各类精密量检测设备的核心光源，贯穿芯片制造、精密检测全产业链应用场景，直接影响芯片制程迭代与产品良率管控。本次会议立足激光器关键产业价值，深度链接产学研用创新体系，汇聚国内顶尖科研院所、半导体激光及设备领域头部企业、FAB厂等，吸引超60家链上标杆单位、近百位行业专家参会，围绕半导体制造、精密量检测领域激光器前沿、工艺落地、国产化替代、场景应用等关键议题展开全维度深度研讨。会议旨在破解半导体工艺制造与量检测用激光器真实痛点，实现前沿理论与工业需求精准高效对接。通过凝聚产业链上下游共识、整合资源，加速关键核心技术协同攻关，为我国半导体激光器自主...

    

近日，深圳平湖实验室喜讯频传。由实验室联合深圳市鹏进高科技有限公司共建的化合物功率半导体中试平台，此前已获批广东省半导体与集成电路(化合物功率半导体)中试平台，今年又陆续斩获深圳市化合物功率半导体中小试基地和工信部重点培育中试平台，两大重磅认定，实现从市级支撑、省级布局到国家级培育的跨越式升级。  一、入选工信部第二批重点培育中试平台名单（深圳唯一） 近日，工信部公示第二批重点培育中试平台初步名单，深圳平湖实验室联合深圳市鹏进高科技有限公司共建的化合物功率半导体中试平台成功入选，成为本轮深圳唯一获此殊荣的平台。这是继省级认定后，平台斩获的又一国家级权威认可，标志着深圳在第三代半导体成果转化领域跻身全国第一梯队，为粤港澳大湾区半导体产业高质量发展注入核心动能。 本次工信部重点培育中试平台遴选，围绕制造业关键领域，经自愿申报、地方推荐、专家评审等多轮严苛环节，最终确定入选名单。化合物功率半导体中试平台凭借全流程自主可控的中试能力、领先的技术成果与清晰的产业化路径，从全国2400余家入库的申报主体中...

2026年5月22日，西安理工大学教授、国际合作与交流处处长杨媛率专家团队一行莅临深圳平湖实验室，围绕宽禁带半导体材料与器件研发攻关开展调研交流，并与实验室正式签署合作框架协议。西安理工大学杨媛处长、深圳平湖实验室赵鲁江部长分别代表双方进行了签约。 西安理工大学一行先后参观实验室展厅及中试线，详细了解科研布局、技术攻关与成果转化情况，双方就核心技术研发、产业应用前景深入交流。 签约仪式上，双方秉持 “开放合作、优势互补、互利共赢、共同发展” 原则，立足国家战略部署，以新发展理念为引领，聚焦高质量发展与新质生产力培育，达成全方位合作共识。未来将充分发挥教育、科技、人才、产业协同优势，面向国家重大战略和未来产业，联合破解行业关键难题、承担国家重大任务、推动科研成果市场化应用、培育产业急需紧缺人才，全面提升人才自主培养能力与服务国家战略水平。 此次合作是产教融合发展的重要举措，双方将以协议签署为契机，深度整合资源、凝聚创新合力，全力推动宽禁带半导体等领域技术突破，为服务国家重大战略、培育发展新质...

5月14-16日，2026杭州半导体与集成电路全产业链人才生态建设协同创新大会在杭州大会展中心举办。深圳平湖实验室受邀参会，深度参与产业人才培育与产教融合，为我国半导体人才生态建设贡献平湖方案。 会上，实验室正式加入半导体与集成电路产业链企业大学计划并参与发布仪式，该计划将从推进在校学生使用国产TCAD/EDA工具为切入点，携手行业同仁共建产学研协同、供需精准对接的人才培育体系，助力破解产业人才痛点。 深圳平湖实验室主任万玉喜在大会作主题分享，围绕实验室在产教融合领域的探索与实践，从人才培养模式创新、产学研协同机制搭建、实践育人平台建设等方面展开交流，为集成电路产业人才生态建设提供实践参考。 同时，实验室参与编写的《芯跳不止：中国半导体产业的奋进之路与未来图景》思政教材重磅发布，该教材立足国家战略，系统梳理产业奋进历程，传递半导体人攻坚克难的精神力量，为产业人才思政教育提供权威、鲜活素材。 其中，教材第七章《国产功率半导体的崛起之路》由深圳平湖实验室重点编撰，全景展现国产功率半导体从早期探索到技术突围、...

2026年4月23日，深圳平湖实验室分析检测中心李齐治博士受邀出席第三代半导体检测技术创新与应用论坛（2026第19届中国科学仪器发展年会），并发表题为《宽禁带半导体材料分析技术的应用与实践》的特邀报告。报告聚焦半导体器件研发与工艺流程优化中的实际痛点，系统阐述了XRD、AFM、SEM、TEM、SIMS及拉曼光谱等多种材料分析技术在碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等宽禁带半导体领域的应用案例与解决方案，通过材料分析实战案例在产业中的应用展示分析检测核心价值，用科学表征手段和高精度的技术方案夯实产业高质量发展的底座。 作为新能源汽车、5G通信、航空航天等战略性新兴产业的关键基础材料，第三代半导体对材料质量与工艺精度提出了极高要求。材料分析技术贯穿其研发、工艺优化到量产的全生命周期，是推动技术突破、质量跃升和产业链自主可控的核心支撑。 在衬底制备环节，SiC、GaN晶体对完整性、杂质及缺陷控制要求严苛，微管、位错等缺陷将直接制约器件性能。通过XRD、AFM、SEM等表征手段，可精准解析晶体结构、表面形貌及缺陷...

4月23日-25日，2026九峰山论坛在武汉光谷科技会展中心圆满举办。本届论坛以 “新赛道、新技术、新产品、新市场” 为核心主题，汇聚行业院士专家、头部企业代表及科研精英，打造中国化合物半导体领域规格最高、规模最大的行业盛会。深圳平湖实验室作为行业重要科研力量之一，深度参与论坛各项活动，联合发布权威报告，领衔分论坛承办，分享前沿科研成果等，全方位展现实验室在第三代、第四代半导体领域的科研实力与产业担当。 2026九峰山论坛开幕式   一、出席开幕式，联合发布权威报告 论坛开幕式现场大咖云集，中国科学院院士、武汉大学教授刘胜致辞并聚焦产业机遇与发展路径分享核心观点。开幕式上，由第三代半导体产业技术创新战略联盟编写的《第三代半导体产业发展报告（2025）》正式发布，第三代半导体技术产业创新战略联盟理事长吴玲作为主发布人，介绍了《报告》编制情况及产业趋势现状。深圳平湖实验室深度参与了本《报告》的编写，实验室主任万玉喜受邀上台，参与报告联合发布仪式。 《第三代半导体产业发展报告（2025）》正式发布  二、...